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日本filmetrics膜厚測量系統(tǒng)F20 測厚儀

日本filmetrics膜厚測量系統(tǒng)F20 測厚儀

更新日期:2024-05-15

訪問量:1278

廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

生產(chǎn)地址:

簡要描述:
日本filmetrics膜厚測量系統(tǒng)F20
一種行業(yè)標準、低價、多功能的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng),已在全球安裝了 5,000 多臺。它可用于從研發(fā)到制造現(xiàn)場在線測量的廣泛應用。

日本filmetrics膜厚測量系統(tǒng)F20

一種行業(yè)標準、低價、多功能的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng),已在全球安裝了 5,000 多臺。它可用于從研發(fā)到制造現(xiàn)場在線測量的廣泛應用。
F20基于光學干涉法可在1秒左右輕松測量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數(shù)。
它還支持多點在線測量,并支持RS-232C和TCP/IP等外部通訊,因此可以通過PLC或上位機進行控制。

主要特點

  • 支持廣泛的薄膜厚度范圍(1 nm 至 250 μm)

  • 支持寬波長范圍(190nm 至 1700nm)

  • 強大的膜厚分析

  • 光學常數(shù)分析(折射率/消光系數(shù))

  • 緊湊的外殼

  • 支持在線測量

主要應用

平板單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、
各種光學膜等。
半導體抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
光學鍍膜防反射膜、硬涂層等
薄膜太陽能電池CdTe、CIGS、非晶硅等

砷化鋁鎵(AlGaAs)、磷化鎵(GaP)等
醫(yī)療鈍化、藥物涂層等

產(chǎn)品陣容

模型F20-UVF20F20-近紅外F20-EXRF20-UVX
測量波長范圍190 – 1100nm380 – 1050nm950 – 1700nm380 – 1700nm190 – 1700nm
膜厚測量范圍1nm – 40μm15nm – 70μm100nm – 250μm15nm – 250μm1nm – 250μm
準確性*± 0.2% 薄膜厚度± 0.4% 薄膜厚度± 0.2% 薄膜厚度
1納米2納米3納米2納米1納米
測量光斑直徑支持高達1.5 毫米或 0.5 毫米
最小 0.1 毫米(可選)
光源

氘·

鹵素

鹵素

氘·

鹵素

* Filmometry 提供的測量 Si 基板上的 SiO2 膜時器件主體的精度。



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